ITO陶瓷溅射靶

参数及说明介绍：
1、粉体及靶材制备方法：
   均相共沉淀法，冷等烧结
   粉体纯度：≥99.99%
2、靶材外形尺寸：
   4.5mm，6mm，麦粒状颗粒（1-3mm）（可根据要求定做）
   靶材颜色：黑色（高密度）
   蒸镀用靶材相对密度：≧99%
   靶材颜色：绿色（低密度）
   蒸镀用靶材相对密度：≧62﹪
3、靶材配比比例：
   In₂O₃/SnO₂ 95：5   90：10   98：2 （比例可根据要求定做）
4、成膜后技术参数
   可见光透射率：≧85﹪
   红外线反射率：≧80﹪
   紫外线吸收率：≧85﹪
   衰减率：≧85﹪
   成膜电阻： 1-10x10^-4Ω.cm，或方阻10-200Ω
5、通常情况工作压强帕
   小于10^-2Pa
6、温度
   现在大多采用低温成膜技术，温度控制在150℃—300℃，温度及充氧量具体要视材料源的配比，及真空蒸镀的方式。